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    半導體封裝在線(xiàn)式等離子清洗機

    • 產(chǎn)品型號：NE-OPE1000
    • 性能特點(diǎn)：獨立片式清洗，全自動(dòng)運行
    • 產(chǎn)品用途：引線(xiàn)框架、LED支架清洗
    在線(xiàn)咨詢(xún)
    • 產(chǎn)品介紹
    • 產(chǎn)品參數
    在線(xiàn)式等離子清洗機總體分為四個(gè)部分：設備主體、上下料系統、物料傳輸系統和等離子清洗系統。該設備采用適應于引線(xiàn)框架全自動(dòng)清洗運行方式，針對半導體封裝中引線(xiàn)框架上點(diǎn)膠裝片、芯片鍵合及塑封等工藝前清洗，大大提高粘接及鍵合強度等性能的同時(shí)，避免人為因素長(cháng)時(shí)間接觸引線(xiàn)框架而導致的二次污染以及腔體式批量清洗時(shí)間長(cháng)有可能造成的芯片損傷，適用于大規模生產(chǎn)的在線(xiàn)式引線(xiàn)框架清洗設備，解決了集成電路制造過(guò)程中設備人力成本高、生產(chǎn)效率低等技術(shù)難題。

    工藝流程：
    1）將裝滿(mǎn)引線(xiàn)框架的4個(gè)料盒放置在置取料平臺上，推料機構將第一層料片推出至上下料傳輸系統。
    2）上下料傳輸系統通過(guò)壓輪及皮帶傳輸將料片傳輸到物料交換平臺的高臺上，通過(guò)撥料系統進(jìn)行定位。
    3）接好料片的平臺交換至等離子反應腔室下方，通過(guò)提升系統將真空腔室閉合抽進(jìn)行等離子清洗。當高臺傳輸到清洗位時(shí)，低臺傳輸到接料位置進(jìn)行第二層的接料。高臺清洗結束后與低臺交換位置，低臺進(jìn)行等離子清洗，高臺到接料位置進(jìn)行回料。
    4）物料交換平臺上的料片由撥料系統撥到上下料傳輸系統上,通過(guò)壓輪和皮帶傳回料盒，完成一個(gè)流程。推料機構推下一層料片，進(jìn)行下一個(gè)流程。

    產(chǎn)品特點(diǎn)：
    在線(xiàn)式等離子清洗采用自動(dòng)的清洗方式，適用于大規模的生產(chǎn)線(xiàn)，節省人工，降低勞動(dòng)力成本；
    整個(gè)工藝流程50s內即可完成，使清洗效率獲得極大的提高，優(yōu)勢最為明顯；
    每條軌道的寬度可調，可兼容不同規格尺寸的產(chǎn)品；
    獨立片式清洗，清洗均勻性大幅度提升；

    作為一種精密干法清洗設備，等離子清洗機可以有效去除半導體封裝工藝過(guò)程中的污染物，改善材料表面性能，增加材料表面能量。與傳統獨立式的等離子清洗設備相比，在線(xiàn)式等離子清洗設備具有自動(dòng)化程度高、清洗效率高、設備潔凈度高、適應范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，適用于大規模全自動(dòng)化生產(chǎn)。

    型號 NE-OPE1000在線(xiàn)式等離子清洗機
    整機尺寸 L*W*H：2000mm* 1200mm* 1700mm
    電源 1PH220V、40A、50 Hz
    壓縮空氣 0.4-0.6MPa
    環(huán)境需求 溫度：15~25℃濕度：40~60%
    制程氣體 標配Ar
    射頻電源 1KW，13.56MHz
    真空泵  干泵
    控制系統 PC+人機界面
    可清洗產(chǎn)品規格  產(chǎn)品長(cháng)度：120mm-270mm，產(chǎn)品寬度：40mm-83mm

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