如何消除等離子清洗機的氟元素污染
文章出處：等離子清洗機廠(chǎng)家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2023-07-25
等離子清洗工藝是半導體和薄膜厚膜電路生產(chǎn)工藝的精密清洗輔助工序，常作用在元器件封裝前和芯片鍵合前。清洗效果的好壞對最終產(chǎn)品質(zhì)量有決定性的影響?，F有的等離子清洗工藝存在雜質(zhì)污染問(wèn)題，通過(guò)改變反應倉內絕緣零件的材料，能夠有效解決等離子清洗工藝中的氟元素污染問(wèn)題，工件清洗效果得到很大改善。
等離子清洗又稱(chēng)為干法清洗，是在射頻電源的激發(fā)下，將氧氣、氬氣等工藝氣體激發(fā)成離子態(tài)，進(jìn)而與待清洗工件表面的雜質(zhì)發(fā)生化學(xué)物理反應，反應生成的產(chǎn)物再通過(guò)真空泵將其抽走，從而達到清洗目的，等離子清洗的好壞直接決定了成品率的高低。等離子清洗可應用于半導體、厚膜電路、PCB、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，常作用在元器件封裝前、COG前。等離子清洗也可用于塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學(xué)實(shí)驗等領(lǐng)域。
隨著(zhù)半導體技術(shù)水平的不斷更新迭代、制程工藝逐步優(yōu)化、各生產(chǎn)廠(chǎng)家對產(chǎn)品潔凈度的要求不斷提高，清洗工藝中附帶產(chǎn)生的雜質(zhì)也逐漸被發(fā)現，包含各種不同化學(xué)成分的雜質(zhì)會(huì )對整個(gè)工藝流程產(chǎn)生不可逆的影響。因此，消除影響清洗工藝中產(chǎn)生的雜質(zhì)，成為亟待解決的問(wèn)題。雜質(zhì)的去除會(huì )大大提升產(chǎn)品質(zhì)量，實(shí)現工藝性能的大幅增強，提高良品率及產(chǎn)品可靠性。
在等離子清洗機清洗的過(guò)程中，腔室內部含氟元素的零件，在射頻電源激發(fā)形成等離子體的清洗過(guò)程中，會(huì )將含氟元素零件進(jìn)行離子化，形成以氟離子或含氟化合物的形式附著(zhù)在工件表面，對芯片表面造成不可逆的污染，大大降低工件良品率，并對后續工藝形成嚴重影響。
陶瓷與硅膠圈代替含氟元素材質(zhì)
可以通過(guò)將等離子清洗機反應腔室內部所有含氟元素的零件進(jìn)行替換，主要是密封圈，和電極板托條處會(huì )使用聚四氟乙烯，可能會(huì )引入氟元素污染，因此改變反應腔室內部零件材料，包括電極板兩側托條，門(mén)密封圈等零件，用陶瓷、硅膠等在射頻條件下穩定性更高的材質(zhì)代替聚四氟等所有含氟元素的零件材料，如圖1所示?？梢员苊夥磻皇抑杏蟹匚廴镜拇嬖?，從而大大提高了產(chǎn)品質(zhì)量，為下一道工序及整個(gè)產(chǎn)品制程提供了可靠保障。
廣東省深圳市光明區華明城高新產(chǎn)業(yè)園A棟5樓 
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